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张羽翔

作者:  发布时间:2020-06-28  访问次数:[]

   张羽翔,男,1992年8月生,河南许昌人,汉族,中共党员。2013年毕业于郑州轻工业大学,获得化学工程与工艺专业工学学士学位;2019年毕业于江南大学,获得江南大学化学工程与技术专业工学博士学位。2019年7月至今在beat365正版唯一网站工作。主要承担化学工程与工艺专业《化工过程分析与合成》、《化工专业导论》等课程的讲授。

研究领域及方向:

无机合成(无机化学与核化学、金属有机化学方向)、材料科学(纳米薄膜材料与非均相纳米催化材料方向)

发表学术论文及专利:

1.   Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. High growth per cycle thermal atomic layer deposition of Ni films using an electron-rich precursor[J]. Nanoscale, 2019, 11: 3484-3488.(Communication, Cover article)

2.   Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. A high growth rate atomic layer deposition process for nickel oxide film preparation using a combination of nickel(II) diketonate-diamine and ozone[J]. Applied Surface Science, 2019, 481: 138-143.

3.   Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. Synthesis, characterization, and thermal properties of cobalt(II) compounds with guanidinate ligands[J]. New Journal of Chemistry, 2018, 42: 9110-9115.

4.   Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. A nickel(II) guanidinate compound and its potential as CVD precursor for nickel related films[J], Polyhedron, 2018, 156: 218-222.

5.   Yuxiang Zhang, Liyong Du, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. An iron(II) guanidinate compound: synthesis, characterization, thermal properties and its application as a CVD precursor for iron oxide film[J], Applied Organometallic Chemistry, 2019, DOI: 10.1002/aoc.4981.

6.   Liyong Du, Wei Huang, Yuxiang Zhang, Xinfang Liu, Yuqiang Ding*. The first atomic layer deposition process for FexN films, Chemical Communications, 2019, 55: 1943-1946.

7.   Yuxiang Zhang, Liyong Du, Yuqiang Ding*. Efficient thermal atomic layer deposition processes enhancing by precursors containing long chains electron-donating ligand, 256th ACS National Meeting, 2018, INOR 722.

8.   一种单原子层沉积技术生长含Ni薄膜的方法[P]. 中国专利,申请号: 201610424181.X

9.  一种以肼类为还原剂单原子层沉积技术生长金属Cu的方法[P]. 中国专利, 申请号:201611035067.4


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